光掩模

✍ dations ◷ 2024-12-23 09:31:49 #半导体器件制造

光掩模(英语:Reticle, Mask):在制作集成电路的过程中,利用光刻蚀技术,在半导体上形成图型,为将图型复制于晶圆上,必须透过光掩模作用的原理。比如冲洗照片时,利用底片将影像复制至相片上。

相位移光掩模、二元光掩模

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