光罩护膜（Pellicle），即表示是光罩上的膜或薄膜的意思，结构为一薄膜展开在框架上，以免于光罩受到微尘或挥发性气体的污染。自1970年代后期即开始发展，早期的保护膜大都使用硝化纤维素，其波长在350～450nm，折射率约为1.5，厚度则2.85 mm。因为硝化纤维素在小于350nm的波长有明显的吸收能力，所以KrF (248nm)、ArF (193nm) 的保护膜则使用非结晶之氟聚合物材质（如铁氟龙、Cytop），但是上述的两个材料的折射率皆很低，248nm的折射率约为1.34，193nm 则约1.40，因此很难找到效果良好的抗反射涂层，因此单层薄膜在这些波长下是最常见的。
“抗反射涂层”（成分为氟化钙或氟碳化合物），通常会涂在保护膜的一侧或两侧，以提高透光率之用。
在目前逐步踏入EUV的世代，因为其波长仅有13.5nm，以往所使用的“光罩护膜”将会吸收此光源的波长，然而据报导指出ASML是唯一成功开发出商用的“EUV保护膜”的制造商，也在2019年与日本三井化学公司签署EUV光罩护膜组装技术的授权。
使用光罩护膜有两种目的，一是增加芯片生产良率；二是减少光罩于使用时的清洁和检验。
