光罩护膜

✍ dations ◷ 2025-07-11 05:29:32 #半导体器件制造,材料科学,化工产品

光罩护膜(Pellicle),即表示是光罩上的膜或薄膜的意思,结构为一薄膜展开在框架上,以免于光罩受到微尘或挥发性气体的污染。自1970年代后期即开始发展,早期的保护膜大都使用硝化纤维素,其波长在350~450nm,折射率约为1.5,厚度则2.85 mm。因为硝化纤维素在小于350nm的波长有明显的吸收能力,所以KrF (248nm)、ArF (193nm) 的保护膜则使用非结晶之氟聚合物材质(如铁氟龙、Cytop),但是上述的两个材料的折射率皆很低,248nm的折射率约为1.34,193nm 则约1.40,因此很难找到效果良好的抗反射涂层,因此单层薄膜在这些波长下是最常见的。

“抗反射涂层”(成分为氟化钙或氟碳化合物),通常会涂在保护膜的一侧或两侧,以提高透光率之用。

在目前逐步踏入EUV的世代,因为其波长仅有13.5nm,以往所使用的“光罩护膜”将会吸收此光源的波长,然而据报导指出ASML是唯一成功开发出商用的“EUV保护膜”的制造商,也在2019年与日本三井化学公司签署EUV光罩护膜组装技术的授权。


使用光罩护膜有两种目的,一是增加芯片生产良率;二是减少光罩于使用时的清洁和检验。




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