光谱烧孔

光谱烧孔（Spectral hole burning）是对材料吸收光谱特定频率的选择性漂白后，导致材料的吸收谱在特定频谱范围内的传输性能增加的效应，也就是所谓的“光谱孔”。

这种效应的产生须满足以下两个要求：

大多数分子和原子的状态总是从激发态返回到基态，但某些情况下存在例外。例如，一些有机染料分子可能会发生光化学反应，这将改变分子的化学结构。如果这种光化学活性分子吸收光，那么它将有可能不会返回到初始的离析状态，而转变成处于基态的新产物。通常，新产物的均匀吸收谱与离析物的均匀吸收谱迥乎不同，并且相应的非均匀展宽边带并不重叠。

光谱烧孔的宽度可以表述如下：

${\displaystyle {\mathrm{\nu <!--\; \nu \; -->}}_H=\frac{{\mathrm{\nu <!--\; \nu \; -->}}_h}{2}\left(1+\frac{I_V}{I_S({\mathrm{\nu <!--\; \nu \; -->}}_0)}\right)}$

其中， ${\displaystyle {\mathrm{\nu <!--\; \nu \; -->}}_H}$ 是光谱烧孔的宽度， ${\displaystyle {\mathrm{\nu <!--\; \nu \; -->}}_h}$ 是均匀线宽， ${\displaystyle {\mathrm{\nu <!--\; \nu \; -->}}_0}$ 是中心频率， ${\displaystyle I_S}$ 是饱和强度。