ClFsub3/sub

三氟化氯是无机化合物 ，分子式为ClF3。这种物质气态时为淡黄色，有毒，有强腐蚀性，液态时为黄绿色，一般将其压缩成液体销售。该物质主要的用途是火箭燃料，半导体行业中清洗和蚀刻， 核反应堆加工燃料， 以及一些其他用途。拉夫（Ruff）和克鲁格（Krug）在1930年氟化氯气并报告发现了这种物质。这个反应也生成一氟化氯，可以通过蒸馏使其分离。ClF3 形状大致是T形, 有一个短键 (1.598 Å) 和两个长键 (1.698 Å). ，孤对电子占据两个赤道位置，与共价键一起形成一个三角双锥。这种结构与价层电子对互斥理论的预测一致。较长的Cl-F键与超价键一致.纯净的ClF3在180℃以下的玻璃容器中是稳定的，一旦超过这个温度就会通过自由基反应分解。ClF3主要用来生产六氟化铀（UF6），以及核燃料加工和后期处理，主要反应方程式:ClF3是一种很强的氧化剂、氟化剂。它能与大多数无机物、有机物甚至塑料反应，可以使许多材料不接触明火就燃烧。这些反应通常很剧烈，在某些情况下甚至会爆炸。它与一些金属反应生成氯化物和氟化物，与磷反应生成三氯化磷和五氟化磷，而与硫反应生成二氯化硫和四氟化硫。 ClF3也与水剧烈反应，水解产生有毒物质，例如氟化氢。H2S在室温下与ClF3混合就会爆炸。超过氧气的氧化性使ClF3能腐蚀通常视为不可燃的含氧材料。在一起工业意外中，900千克ClF3泄漏，烧穿了下面30厘米厚的混凝土和90厘米厚的砾石. 任何和三氟化氯接触的设备必须经过仔细挑选和清洁, 因为任何污染都可以烧穿钝化膜，使它来不及重新生成。三氟化氯已经发展成火箭推进剂的高性能可储存氧化剂。然而一些处理上的问题使它受限，约翰·D·克拉克（英语：John D. Clark）在其著作《Ignition!: An informal history of liquid rocket propellants》中阐述了以下困难：在半导体工业中，三氟化氯被用于清洁化学气相沉积的反应舱。 它具有不需拆卸反应舱就可以清除舱壁附着的半导体物质这一优点。 与其它代替的清洁剂不同，三氟化氯在使用前不需经过等离子体激化，因为反应舱残存的热量就足以使它分解并与半导体材料反应。