三氟化氮

✍ dations ◷ 2025-06-28 21:39:23 #无机胺,氟化物,氮卤化物,温室气体

三氟化氮(NF3)是卤化氮中最稳定的,可在钙的催化下由氨气与氟气制成。 它可以用作氟化氢激光器的氧化剂,半导体、液晶和薄膜太阳能电池生产过程中的蚀刻剂。曾被试做火箭燃料。 但由于三氟化氮属于温室气体,能加剧温室效应,因此有人认为应该限制这种化合物的使用。

三氟化氮在半导体及TFT-LCD制造的薄膜制程中扮演“清洁剂”的角色,不过这类清洁剂是气态,而非液态。

在半导体中,薄膜制程的主要设备是“化学气相沉积”(CVD)机台,会在晶圆片上长出薄膜。薄膜的成分有可能是硅、二氧化硅或其他金属材料,但这些材料不仅会附着在芯片上,也附着在反应室内的墙壁上,内墙上的二氧化硅累积至相当数量,就会在反应室内形成微尘粒子(Particle),影响晶圆片的良率。

因此每台CVD机台在处理过规定数量的晶圆片后,就要使用含氟的气体清洗,以去除内壁上的硅化物质。不过NF3与CF4、C2F6等气体都属于多氟碳化物,是造成温室效应的来源之一。半导体厂为了降低排气对温室效应的影响,在排放含氟废气前,会以高温(摄氏700、800度才进行)将气体由有机转分解为无机,才不会破坏臭氧层。

目前全球供应NF3气体的厂商主要有四家,最大供应商为美国的Air Product(APCI),在台代理商是三福化工,其余三家皆为日本公司,分别为三井、关东电化(KDK),以及Central Gas。

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