光刻机（英语：Mask Aligner）是制造微机电、光电、二极体大规模集成电路的关键设备。可以分为两种，分别是模板与图样大小一致的contact aligner，曝光时模板紧贴晶圆；以及利用类似投影机原理的stepper，获得比模板更小的曝光图样。
生产集成电路的简要步骤：
其中光刻机就是利用紫外线通过模版去除晶圆表面的保护膜的设备。
一片晶圆可以制作数十个集成电路，根据模版曝光机分为两种：
其中模版随光刻机移动的方式，模版相对光刻机中心位置不变，始终利用聚焦镜头中心部分能得到更高的精度。成为目前的主流。
光刻机是生产大规模集成电路的核心设备，制造和维护需要高度的光学和电子工业基础，世界上只有少数厂家掌握。因此光刻机价格昂贵，通常在 3 千万至 5 亿美元。
